微小試料分析装置群
電子顕微鏡および関連装置
FE-EPMA (JEOL, JXA-iHP200F)
電界放出型電子プローブ微小分析器
数十倍～数万倍以上の高倍率下での高分解能観察が可能な電子顕微鏡．エネルギー分散型X線分光器(EDS)に加え，5つの波長分散型X線分光器(WDS)を備えている．主に高圧実験回収試料の微小領域の組織観察と化学組成分析（主要元素および微量元素の定量分析）に用いる．
FE-SEM (JEOL JSM-IT500HR)
走査型電子顕微鏡（電解放出型）
数十倍～数万倍以上の高倍率下での高分解能観察が可能な電子顕微鏡．エネルギー分散型X線分光装置（EDS: Oxford X-max50）及び電子線後方散乱回折装置（EBSD: Oxford C-Nano）を備えている．主に高圧実験からの回収試料の極微小領域の組織観察，化学組成分析（主要元素の定量分析及び定性分析），及び結晶方位測定に用いる．
SEM (JEOL,JSM-6510LV)
走査型電子顕微鏡（熱電子銃型）
数十倍～数千倍程度の倍率下での微細組織観察が可能な電子顕微鏡．エネルギー分散型X線分光装置（EDS: Oxford X-max20）を備えている．主に高圧実験からの回収試料の微小領域の組織観察，及び化学組成分析（主要元素の定量分析及び定性分析）に用いる．
FE-TEM (JEOL, JEM-2100F)
透過電子顕微鏡（電界放出型）
試料の微細組織観察や化学組成分析に用いる．フィールドエミッション電子銃を搭載し，0.23nmの点分解能を実現．各種検出器 との組み合わせにより試料の定性・定量元素分析や誘電的性質を知ることが可能である．高速CCDカメラと高速高感度CMOSカメラを備え，高分解能像およびその場観察データの取得が可能．
TEM (JEOL,JEM-2010)
透過型電子顕微鏡（熱電子銃型）
試料の微細組織観察や化学組成分析に用いる．フィールドエミッション電子銃を搭載し，0.23nm試料の微細組織観察に用いる．表面組織を観察するSEMとは異なり，電子線の透過・回折像から試料内部の微細組織や結晶構造分析を行う．高速CCDカメラ2基（Gatan, Orius200D, 1000）を備えており，数十万倍下での高分解能像観察も可能.
Dual beam FIB (1)(FEI Ltd., Scios)
Dual beam FIB (2)(Thermo Fischer Scientific, Scios2)
集束イオンビーム（デュアルビーム）加工装置①②
ガリウムイオンビームを試料に照射することでサブミクロンレベルの微細加工を行う装置．イオン銃と電子銃の２種類が付属しており，加工を行いながら二次電子像による観察が可能で，試料の断面観察、透過型電子顕微鏡観察用の薄膜作成，ダイヤモンドアンビルの先端微細加工などが可能．
その他
・イオンスライサ IS（JEOL, EM-09100 IS）
・アルゴンイオンミリング装置 Ar milling（Gatan, PIPS）束イオンビーム（デュアルビーム）加工装置①②
Ｘ線・その他分光装置
Rigaku, RAPIDII-V/DW
微小領域X線回折装置
試料の微小領域からのX線回折パターンを二次元検出器により測定する．CuとMoの2線源の切替が可能で，CuKαを用いた一般的な反射，透過測定に加え，透過力が高く，波長の短いMoKαとDACの組み合わせによる高圧下X線回折測定に使用．
Rigaku, UltimalV/DD
試料水平型多目的X線回析装置
粉末試料や薄膜試料のX線回折パターンをゴニオメータ光学系により測定する装置. 目的に応じ，基本光学系である「集中光学系」と「平行ビーム光学系」，「小角散乱光学系」の切替が可能．検出器には標準のシンチレーションカウンタの他に，高速・高感度測定が可能な高速一次元検出器「D/teX Ultra」を搭載している．主に，粉末・バルク試料の相同定や格子定数精密測定に使用する．
その他
・顕微ラマン分光装置 RAMAN（日本分光，NRS-5100gr；日本分光，NRS-4500；PHOTON Design, RSM 800）
・顕微赤外分光装置FT-IR（日本分光, IRT-5200EUO）
・紫外可視近赤外分光システム UV-Vis-NIR（日本分光, Jasco V-670）